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專利申請新要求有哪些內(nèi)容

作者:小編 日期:2025-03-30 點(diǎn)擊數(shù): 

  專利申請新要求包括多方面。

  一是對新穎性的要求更嚴(yán)格。發(fā)明創(chuàng)造需在申請日前沒有同樣的發(fā)明或者實(shí)用新型在國內(nèi)外出版物上公開發(fā)表過、在國內(nèi)公開使用過或者以其他方式為公眾所知,也沒有同樣的發(fā)明創(chuàng)造由他人向國務(wù)院專利行政部門提出過申請并且記載在申請日以后公布的專利申請文件中。

  二是創(chuàng)造性方面,與現(xiàn)有技術(shù)相比,要有突出的實(shí)質(zhì)性特點(diǎn)和顯著的進(jìn)步。

  三是實(shí)用性上,該發(fā)明或者實(shí)用新型能夠制造或者使用,并且能夠產(chǎn)生積極效果。

  此外,申請文件要撰寫規(guī)范。說明書需對發(fā)明或者實(shí)用新型作出清楚、完整的說明,以所屬技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員能夠?qū)崿F(xiàn)為準(zhǔn);權(quán)利要求書應(yīng)當(dāng)以說明書為依據(jù),清楚、簡要地限定要求專利保護(hù)的范圍。還需遵循相應(yīng)的申請流程和繳納規(guī)定費(fèi)用等,確保專利申請順利進(jìn)行。


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